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真空解決方案 真空解決方案

真空解決方案

向下滾動

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UNIVEX D

Leybold 萊寶開發了一種鍍膜系統,該系統依靠金屬蒸發工藝使含有指紋證據的物品上顯示出指紋。通過熱蒸發沉積薄金層、銀層以及鋅層,甚至可以看到很細微的指紋。

該系統在伸縮導軌上設置一個可拆卸的基材座,可對大型基材進行鍍膜。直徑 400 mm 的窗口玻璃和 LED 燈可提供良好的樣本可見性。該系統通過觸摸面板來操作。

此外,該系統設計用于快速抽氣,以便在數分鐘內達到工藝壓力。

UNIVEX D
處理室尺寸寬:600 毫米,深:600 毫米,高:550 毫米
熱蒸發器雙配置多源
最大展示尺寸840 毫米 x 550 毫米
真空度中真空 10-7 mbar
標簽:UNIVEX D

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